Estudio comparativo in vitro de la resistencia al cizallamiento de la resina compuesta nanotecnológica Filtek Bulk Fill® con fotopolimerización continua y discontinua en el año 2018

Abstract

Objetivo: Determinar in vitro la resistencia al cizallamiento de la resina compuesta nanotecnológica Filtek Bulk Fill® con fotopolimerización continua y discontinua en el año 2018. Materiales y métodos: Se realizó un estudio de nivel explicativo tipo experimental, prospectivo, longitudinal, analítico. La muestra fue 34 bloques de resina distribuidos según la fotopolimerización 17 para continua y 17 discontinua. La medida de los bloques fue 3mm de diámetro por 3mm de altura (resina reparadora) con bloques de base de 4mm de diámetro y 4mm de altura y un mango de acrílico rosado de 8mm de diámetro por 1cm de altura abrazando la resina base. El instrumento fue la máquina digital de ensayos universales CMT-5L marca LG a una velocidad de 5mm por minuto hasta alcanzar la fractura en la unión resina-resina calibrados en High Technology Laboratory Certicate. Resultados: La resina Filtek Bulk Fill® con fotopolimerización discontinua tuvo mayor resistencia al cizallamiento media=20,34 ± 6,2 Mpa en comparación a la fotopolimerización continua media=15,5 ± 6,6 Mpa; con diferencia de medias -4,84118 IC95% [-9,34179 a -0,34056]. La resina Filtek Bulk Fill® con fotopolimerización continua estuvo comprendido entre 2,8 a 27,9 Mpa con coeficiente de variación 0.429 (heterogéneos) y con fotopolimerización discontinua estuvo comprendido entre 11,4 a 31,7 Mpa con coeficiente de variación 0.305 (homogéneos). Conclusión: Con un p-valor=0,036 podemos concluir que se encontró diferencias significativas in vitro en la resistencia al cizallamiento de la resina compuesta nanotecnológica Filtek Bulk Fill® con fotopolimerización discontinua en comparación a la fotopolimerización continua en el año 2018.